Mascara de amplitud, un aparato y un metodo para fabricar un filtro de rejilla de filtracion, de periodo largo, que un filtro de rejilla de difraccion, de periodo largo, que usa los mismos

Se proporciona una máscara de amplitud, un aparato y método para la manufactura de un filtro de rejilla de difracción, de periodo largo, que usa los mismos. Cuando se manufactura una rejilla difracción, de periodo largo pasando de manera selectiva la luz láser hacia una fibra óptica. La máscara de amplitud incluye d o s máscaras (300) que tienen unas áreas de paso que se alternan periódicamente (308) para que la luz láser pase y áreas para prevenir que la luz láser pase, en donde las dos máscaras (300) se giran continuamente en direcciones opuestas. De esta manera, el periodo del área de paso (308) cambia continuamente. En esta máscara, d o s máscaras ( 300) cada una de las cuales tiene un periodo predeterminado gira en direcciones opuestas, y de esta manera se proporciona un periodo de la máscara de amplitud que depende del ángulo de rotación. Así, el periodo de la máscara de amplitud se puede cambiar continuamente.